半導(dǎo)體工業(yè)用超純水的制備過程詳解
【純水設(shè)備www.zzdsjc.com】半導(dǎo)體超純水設(shè)備主要用于高技術(shù)的工業(yè)生產(chǎn)過程，尤其是半導(dǎo)體這種要求較高的技術(shù)尖端行業(yè)，對水質(zhì)要求非常嚴格。
半導(dǎo)體用水中K+、Na+、Cu2+、Zn2+、Fe2+、Cr6+、Mn2+等金屬離子含量都要在ppb級以下，總硅小于3ppb，TOC小于50ppb，電阻率在18MΩ·cm以上，水質(zhì)中及其微量的雜質(zhì)原子都會對產(chǎn)品造成極大的影響。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備之預(yù)處理系統(tǒng)
一般水源水都難以滿足超純水的要求，在半導(dǎo)體超純水設(shè)備的和制備過程中，預(yù)處理是非常必要的。絮凝沉淀、氧化、吸附是最常用的預(yù)處理工藝流程。原水中加入絮凝劑或采用電解絮凝方式，可以去除懸浮物、膠體和少部分有機物。氧化主要是去除易生物降解的有機物和氨氮。吸附同樣去除水中的懸浮物和膠體。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備之深度處理系統(tǒng)
超純水的深度處理工藝需要采用最有效的水處理材料和最先進的水處理單元裝置，最常用的就是反滲透設(shè)備，反滲透是現(xiàn)代超純水制備的核心。超純水處理工藝一般為：原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→保安過濾器→反滲透裝置→混床→超濾設(shè)備→超純水。終端的超濾設(shè)備可進一步降低微粒和細菌的含量。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備的制備過程主要以預(yù)處理和深度處理兩大系統(tǒng)為主，完全按照超純水要求制備，嚴格控制出水水質(zhì)指標，保證工業(yè)生產(chǎn)和產(chǎn)品的品質(zhì)。純水設(shè)備，實驗室純水設(shè)備,GMP醫(yī)用純化水設(shè)備，半導(dǎo)體超純水設(shè)備。
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